Double-dot charge transport in Si single electron/hole transistors
Auteurs : L. P. Rokhinson, L. J. Guo, S. Y. Chou, D. C. Tsui
Résumé : We studied transport through ultra-small Si quantum dot transistors fabricated from silicon-on-insulator wafers. At high temperatures, 4K<T<100K, the devices show single-electron or single-hole transport through the lithographically defined dot. At T<4K, current through the devices is characterized by multidot transport. From the analysis of the transport in samples with double-dot characteristics, we conclude that extra dots are formed inside the thermally grown gate oxide which surrounds the lithographically defined dot.
Explorez l'arbre d'article
Cliquez sur les nœuds de l'arborescence pour être redirigé vers un article donné et accéder à leurs résumés et assistant virtuel
Recherchez des articles similaires (en version bêta)
En cliquant sur le bouton ci-dessus, notre algorithme compare le titre et le résumé de cet article à tous les articles de la même catégorie arXiv que nous avons résumés, et trouve les plus proches. Vous pouvez le relancer de temps en temps : les résultats s'améliorent à mesure que notre base grandit.